Компания Prinano, известная как PuLin Technology, сумела сделать важный шаг вперёд в области нанотехнологий, впервые поставив собственный разработанный наноимпринтный литограф PL-SR для производства чипов. Эта система была создана специально для массового производства микросхем, что стало значимым событием для индустрии полупроводников в Китае. После компаний Canon, которая ранее осуществила подобную поставку, Prinano стала второй отечественной компанией, вышедшей на международный рынок с подобным продуктом, что говорит о стремительном развитии технологического сектора в КНР.
На сегодняшний день использование наноимпринтных литографов стало одним из перспективных направлений в производстве полупроводниковых чипов благодаря своей потенциальной стоимости и эффективности. Модель PL-SR поддерживает создание узких линий менее десяти нанометров, что приближает её к современным стандартам микроэлектронной промышленности. Для сравнения, например, система Canon FPA-1200NZ2C способна наносить схемы с минимальной шириной линий 14 нм, тогда как принт Prinano способен обрабатывать чипы класса 5 нм, хотя в технической документации подчеркивается, что это не означает, что технология полностью соответствует передовым 5-нанометровым процессам. Это говорит о потенциале, но также и о необходимости дальнейших усовершенствований.
Одним из ключевых преимуществ наноимпринтных литографов является отсутствие необходимости в использовании экстремального ультрафиолетового излучения (EUV), которое является основным компонентом при традиционной EUV-литографии. Такой подход значительно сокращает энергоемкость и стоимость оборудования, делая технологию более доступной. Однако, обзор её недостатков показывает, что производительность таких систем не так высока, как у классических оптических методов, а гибкость при создании сложных шаблонов – ограничена. По этим причинам системы Prinano лучше всего подходят для изготовления относительно простых элементов, таких как флеш-память или дребезжащие микросхемы, а создание высокопроизводительных центральных процессорных блоков или графических процессоров в рамках данного метода маловероятно.
Технология Prinano формирует микро-рисунок на поверхности пластин, используя прижим к кварцевой форме с нанесённым наноразмерным шаблоном. Эта форма, с выгравированными схемами, взаимодействует с тонким слоем резиста, нанесённым с помощью струйной печати. Для обеспечения высокой точности и однородности процесса система динамически измеряет объем капель, что позволяет сохранить минимальный слой резиста менее десяти нанометров с отклонением менее двух нанометров. В условиях обработки крупномасштабных пластин диаметр которых составляет 300 мм, такая точность критична для получения качественных результатов.
Итак, несмотря на некоторые ограничения, поставка наноимпринтного оборудования Prinano открывает новые горизонты для китайской промышленности полупроводников. Это не только демонстрирует техническую компетентность и амбиции национальных разработчиков, но и способствует снижению зависимости страны от зарубежных технологических гигантов в критически важной сфере чипмейкинга. В будущем на базе таких систем возможно появление более сложных решений, что улучшит возможности массового производства микроэлектроники. Таким образом, российские и международные отраслевые эксперты с интересом наблюдают за успехами Prinano как за знаковым прорывом в области наноимпринтных технологий в Азии.
